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K型熱電偶

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預熱陶瓷熱電偶與預熱陶瓷管區別及兩種方式測試對比

來源:www.kimmosasi.net作者:發表時間:2020-12-23

 初次使用

       以不超過每小時200°F的線性速率將溫度從環境溫度升高到1100°F。切勿在塗層的任何一個區域上長時間直接照射火焰。

       每英寸最大厚度在1100°F下保持兩個小時。

       以每小時不超過200°F(線性)的速度升高溫度至工作溫度。

       按照上述時間表進行操作後,襯裏就可以接收熔融金屬了。初次使用時,將探頭浸入大約1/3並保持一分鍾。繼續將探頭浸入水中,直至覆蓋2/3並保持一分鍾。最後將探頭浸入所需的深度。僅在初次使用時才需要進行燒結。

後續使用

       探頭冷時,切勿將其浸入熔融金屬中。在額外倒入之前,可以從具有高火焰的冷狀態對探針進行預熱,直到探針達到熔融金屬的近似出鋼溫度為止。

高溫陶瓷熱電偶

預熱陶瓷保護管(以下信息適用於陶瓷保護管的Mullite和Alumina版本)。

安裝到正在運行的進程中

       將陶瓷保護管以每100°C每小時1英寸的速度插入運行過程中,以防止熱衝擊和可能的破裂。例如,如果您的熔爐在600°C的溫度下運行,那麽您應該花六個小時將陶瓷管插入熔爐中。

PMI-比較兩種測試方法

為什麽選擇PMI?

       使用肯定材料識別(PMI),可以確定合金成分,從而確定材料的身份。如果缺少材料證書或/並且您需要確定所用材料的類型,則將PMI作為NDT方法是最佳解決方案。積極材料識別特別適用於高質量金屬,例如不鏽鋼和高合金金屬。

兩種類型的PMI

       由於用於工業的材料規範越來越具體,因此對PMI測試的需求一直在穩定增長。可以使用XRF和OES類型的PMI,並且兩種分析技術都有其優點和缺點。

       X射線熒光(XRF)儀器的工作原理是將要測量的樣品暴露在X射線束中。樣品的原子從X射線吸收能量,被暫時激發,然後發出二次X射線。每個化學元素都以獨特的能量發射X射線。通過測量發射的X射線的強度和特征能量,分析儀可以提供有關被測材料成分的定性和定量信息。

       XRF分析儀易於使用,重量輕,體積小,並且不需要太多準備就可以測量樣品。但是,XRF單元可以測量的元素數量受到限製。而且,產生X射線的傳統方法已經使用了放射性同位素,使用放射性同位素需要大量文獻記錄。在最新一代的便攜式XRF分析儀中,同位素已被小型X射線管所取代,所需的文件更少。

       在光發射光譜(OES)技術中,原子也被激發。然而,激發能來自樣品和電極之間形成的火花。在這種情況下,火花的能量使樣品中的電子發光,然後將其轉換為光譜圖。通過測量該光譜中峰的強度,OES分析儀可以對材料成分進行定性和定量分析。盡管OES被認為是一種非破壞性的測試方法,但火花的確在樣品表麵留下了輕微的灼傷。

       OES儀器尺寸較大,並使用氬氣提高準確性。樣品製備起著重要作用;但是,儀器分析金屬中常用元素的能力幾乎沒有限製。選擇OES技術而非XRF的主要原因之一是OES在測量碳和鋁等金屬中的輕元素方麵的優越性。OES是在實驗室外測量碳的唯一可靠方法,通常需要使用不鏽鋼,鎂和矽等材料進行測量。該技術還用於鋁合金中鋁的測量。可以在沒有氬氣氣氛的情況下完成OES測量,但會降低精度,精密度或可重複性。

安裝到冷過程中(啟動)

       如果您的陶瓷管已經在冷過程中安裝,則熱量應以每小時不超過100°C的速度增加,以最大程度地減少對管的熱衝擊。